Aluminiumnitrid (AlN)-Keramik ist ein technisches Keramikmaterial, das für seine außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit und bemerkenswerten elektrischen Isoliereigenschaften bekannt ist.

Aluminiumnitrid (AlN) hat eine hohe Wärmeleitfähigkeit, die zwischen 160 und 230 W/mK liegt. Aufgrund seiner Kompatibilität sowohl mit Dick- als auch mit Dünnschichtverarbeitungstechniken weist es günstige Eigenschaften für Anwendungen in der Telekommunikationstechnik auf.

Daher wird Aluminiumnitrid-Keramik häufig als Substrat für Halbleiter, elektronische Hochleistungsgeräte, Gehäuse und Kühlkörper verwendet.

Typische Noten(durch Wärmeleitfähigkeit und Umformprozess)

160 W/mK (Heißpressung)

180 W/mK (Trockenpressen und Bandgießen)

200 W/mK (Bandguss)

230 W/mK (Bandguss)

Typische Eigenschaften

Sehr hohe Wärmeleitfähigkeit

Hervorragende Thermoschockbeständigkeit

Gute dielektrische Eigenschaften

Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient

Gute Metallisierungsfähigkeit

Typische Anwendungen

Kühlkörper

Laserkomponenten

Elektrische Hochleistungsisolatoren

Komponenten zur Verwaltung von geschmolzenem Metall

Vorrichtungen und Isolatoren für die Halbleiterfertigung