(ALN製品製造された半導体で使用されますWintrustek)

窒化アルミニウム強い熱および電気伝導率を備えた絶縁セラミックです。その強い熱伝導率は、半導体に人気のある材料になります。さらに、膨張係数が低く、酸化抵抗が強いため、さまざまな半導体にとって良い選択肢です。熱と化学物質に対する耐性が非常に高いため、窒化アルミニウムは多くの用途に最適な材料です。

ヒーターとしての窒化アルミニウム（ALN）セラミック

半導体業界では、優れた熱伝導率、優れた電気断熱性、敵対的な環境に耐える能力により、窒化アルミニウム（ALN）セラミックヒーターの使用が増加しています。これらのヒーターは、正確な温度制御、均一な加熱、迅速な熱分散を提供するため、半導体の生産やテストなど、高温安定性を必要とするアプリケーションに最適です。

半導体中のALNセラミックヒーターの市場は、半導体デバイスの改善の需要の増加と信頼できる暖房ソリューションの必要性に起因して、大幅に増加すると予想されています。市場シェアを増やし、半導体業界の変化するニーズを満たすために、市場の主要なプレーヤーは革新的な製品の開発と戦略的提携の形成に集中しています。市場の成長の見通しは、航空宇宙、自動車、医療など、さまざまな業界でのALNセラミックヒーターの利用の増加によってさらに強化されています。

ケイ酸塩ウェーハのALN

シリコンウェーハの窒化アルミニウムは、ユニークな特徴を備えた新しいタイプの半導体材料です。 ALNは、優れた機械的品質と低い誘電率を提供します。シリコンに匹敵し、無毒である線形膨張係数があります。その上、それはまた、低熱伝導率を持っています。 これらの複合特性のため、窒化アルミニウムは多くの電子アプリケーションにとって理想的な材料です。

半導体材料の形式は次のとおりです窒化アルミニウム薄いシート。高温に耐えることができ、導電率が高くなります。また、沸点が高く、電磁石に耐性があります。したがって、携帯電話やその他のデバイスで頻繁に見つかります。

その上、窒化アルミニウムは優れた電気絶縁体になります。太陽電池の適用に適しています。しかし、日光にさらされると、その高い熱伝導率は危険です。したがって、それはエレクトロニクスにとって優れた材料です。熱や電気を導入していなくても、非常に導電性です。そのため、窒化アルミニウムは半導体の生産に使用するのに最適な材料です。シリコンウェーハと同等の熱膨張特性を備えており、酸化ベリリウムの優れた代替品となっています。