氮化鋁 (AlN) 陶瓷是一種技術陶瓷材料，以其卓越的導熱性和卓越的電絕緣性能而聞名。

氮化鋁 (AlN) 具有 160 至 230 W/mK 的高導熱率。由於其與厚膜和薄膜處理技術的兼容性，它在電信技術應用中表現出有利的特性。

因此，氮化鋁陶瓷被廣泛用作半導體、高功率電子裝置、外殼和散熱器的基材。

典型成績（按導熱係數和成型製程）

160 W/mK（熱壓）

180 W/mK（乾壓和流延）

200 W/mK（流延）

230 W/mK（流延）

典型特性

非常高的導熱率

傑出的耐熱震性

良好的介電性能

熱膨脹係數低

良好的金屬化能力

典型應用

散熱器

雷射組件

高功率電氣絕緣體

用於管理熔融金屬的組件

用於半導體製造的固定裝置和絕緣體