酸化ベリリウムセラミックの理想的な熱伝導率により、デバイスの耐用年数と品質の向上に役立ち、デバイスの小型化と出力の向上に向けたデバイスの開発を促進するため、航空宇宙、原子力で広く使用できます。 、冶金工学、電子産業、ロケット製造など

窒化アルミニウム セラミックスは全体的に優れた性能を持ち、半導体基板や構造用パッケージ材料に最適であり、エレクトロニクス産業で大きな応用の可能性を秘めています。

Si3N4 は、国内外で高い熱伝導率と高い信頼性を備えた最高のセラミック基板材料として認められています。 Si3N4 セラミック基板の熱伝導率は AlN よりわずかに低いですが、その曲げ強度と破壊靭性は AlN の 2 倍以上に達する可能性があります。一方、Si3N4 セラミックの熱伝導率は、Al2O3 c の熱伝導率よりもはるかに高いです。

21世紀以降、防弾セラミックスは、アルミナ、炭化ケイ素、炭化ホウ素、窒化ケイ素、ホウ化チタンなど、より多くの種類で急速に発展しました。その中には、アルミナセラミックス（Al2O3）、炭化ケイ素セラミックス（SiC）、炭化ホウ素セラミックスがあります。 （B4C）が最も広く使用されています。