Seramik Boron Nitrida Heksagon adalah bahan dengan rintangan yang sangat baik terhadap suhu tinggi dan kakisan, kekonduksian terma yang tinggi, dan sifat penebat yang tinggi, ia mempunyai janji besar untuk pembangunan.

Oleh kerana kekonduksian terma ideal seramik berilium oksida, ia kondusif untuk meningkatkan hayat perkhidmatan dan kualiti peranti, memudahkan pembangunan peranti untuk mengecilkan dan meningkatkan kuasa peranti, oleh itu, ia boleh digunakan secara meluas dalam aeroangkasa, kuasa nuklear , kejuruteraan metalurgi, industri elektronik, pembuatan roket, dsb.

Seramik Aluminium Nitrida mempunyai prestasi keseluruhan yang sangat baik, sesuai untuk substrat semikonduktor dan bahan pembungkusan struktur, dan mempunyai potensi aplikasi yang ketara dalam industri elektronik.

Si3N4 diiktiraf sebagai bahan substrat seramik terbaik dengan kekonduksian terma yang tinggi dan kebolehpercayaan yang tinggi di dalam dan luar negara. Walaupun kekonduksian terma substrat seramik Si3N4 adalah lebih rendah sedikit daripada AlN, kekuatan lentur dan keliatan patahnya boleh mencapai lebih daripada dua kali ganda berbanding AlN. Sementara itu, kekonduksian terma seramik Si3N4 jauh lebih tinggi daripada Al2O3 c

Sejak abad ke-21, seramik kalis peluru telah berkembang pesat dengan lebih banyak jenis, termasuk Alumina, Silicon Carbide, Boron carbide, silicon Nitride, Titanium Boride, dll. Antaranya, Alumina Ceramics (Al2O3), Silicon Carbide ceramics (SiC) dan Boron Carbide Ceramics (B4C) adalah yang paling banyak digunakan.