UFRO
  • Héich Hëtzt Conductive Al Nitride Keramik Plate
  • Héich Hëtzt Conductive Al Nitride Keramik Plate
  • Héich Hëtzt Conductive Al Nitride Keramik Plate
  • Héich Hëtzt Conductive Al Nitride Keramik Plate

Héich Hëtzt Conductive Al Nitride Keramik Plate

Héich Hëtzt Conductive Al Nitride Keramik Plate
  • Denisitéit: 3,31 g / cm3
  • Kompressiv Kraaft: 2100 MPa
  • Hardness (Vickers): 11 GPa
  • PRODUIT DETAIL

Produkt beschreiwung

 

Aluminiumnitrid, Formel AlN, ass e méi neit Material an der technescher Keramikfamill. Wärend seng Entdeckung virun iwwer 100 Joer geschitt ass, ass et an de leschten 20 Joer zu engem kommerziell liewensfäeg Produkt mat kontrolléierten a reproduzéierbare Properties entwéckelt ginn.


Aluminiumnitrid huet eng sechseckeg Kristallstruktur an ass e kovalent gebonnen Material. D'Benotzung vu Sinterhëllef a waarm Pressen ass erfuerderlech fir en dichten technescht Material ze produzéieren. D'Material ass stabil op ganz héich Temperaturen an inert Atmosphär. An der Loft fänkt d'Uewerflächeoxidatioun iwwer 700°C un. Eng Schicht aus Aluminiumoxid entsteet déi d'Material bis zu 1370°C schützt. Iwwer dës Temperatur geschitt bulk Oxidatioun. Aluminiumnitrid ass stabil a Waasserstoff a Kuelendioxidatmosphär bis zu 980 °C.


D'Material léist sech lues a Mineralsäuren duerch Korngrenzattack op, an a staarken Alkalien duerch Attack op d'Aluminiumnitridkären. D'Material hydrolyséiert lues a Waasser. Déi meescht aktuell Uwendungen sinn am Elektronikberäich wou d'Wärmeentfernung wichteg ass. Dëst Material ass interessant als net gëfteg Alternativ zu Beryllia. Metalliséierungsmethoden si verfügbar fir datt AlN amplaz Alumina a BeO fir vill elektronesch Uwendungen benotzt gëtt

 

 Kierperlech Eegeschafte

 

 Gutt dielektresch Eegeschaften

 Héich thermesch Konduktivitéit

 Niddereg thermesch Expansiounskoeffizient, no bei deem vum Silizium

 Net-reaktiv mat normalen Halbleiterprozesschemikalien a Gasen

 

Uwendungen

 

 Heizkierper & Hëtztverdeeler

 Elektresch Isoléierer fir Laser

 Chucks, Clamp Réng fir semiconductor Veraarbechtung Equipement

 Elektresch Isoléierer

 Silicon wafer Ëmgank a Veraarbechtung

 Substrate & Isolatoren fir mikroelektronesch Geräter & Optoelektronesch Geräter

 Substrate fir elektronesch Packagen

 Chipträger fir Sensoren an Detektoren

 Chiplets

 Collets

 Laser Hëtzt Gestioun Komponente

 Geschmollte Metal Armaturen

 Packagen fir Mikrowellengeräter

Material Eegeschafte


Mechanesch

Moosseenheeten

SI/Metrisch

(Imperial)

Dicht

gm/cc (lb/ft3)

3.26

-203.5

Porositéit

% (%)

0

0

Faarf

gro

Flexural Kraaft

MPa (lb/in2x103)

320

-46.4

Elastesche Modul

GPa (lb/in2x106)

330

-47.8

Schéier Modul

GPa (lb/in2x106)

Bulk Modul

GPa (lb/in2x106)

Poisson Verhältnis

0.24

-0.24

Kompressiv Kraaft

MPa (lb/in2x103)

2100

-304.5

Hardness

kg/mm2

1100

Frakturhärke KIC

MPa•m1/2

2.6

Maximal Gebrauch Temperatur

°C (°F)

(keng Belaaschtung)

Thermesch




Thermesch Konduktivitéit

W/m•°K (BTU•in/ft2•hr•°F)

140–180

(970–1250)

Koeffizient vun thermesch Expansioun

10–6/°C (10–6/°F)

4.5

-2.5

Spezifesch Hëtzt

J/Kg•°K (Btu/lb•°F)

740

-0.18

Elektresch




Dielektresch Kraaft

ac-kv/mm (Volt/mil)

17

-425

Dielektresch Konstant

@1 MHz

9

-9

Dissipatioun Faktor

@1 MHz

0.0003

-0.0003

Verloscht Tangent

@1 MHz

Volume Resistivitéit

ohm•cm

>1014



undefined


Verpakung & Versand

undefined

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

ADRESS:No.987 Huli Hi-Tech Park, Xiamen, China 361009
Telefon:0086 13656035645
Tel:0086-592-5716890


VERKAUF
E-Mail:sales@wintrustek.com
Whatsapp/Wechat:0086 13656035645


SEND US MAIL
Mellt Iech w.e.g. a mir kommen op Iech zréck!
Zesummenhang PRODUITEN
Wet diamond polishing pads for granitePoléiert Aluminiumnitrid AlN Keramikblech

Poléiert Aluminiumnitrid AlN Keramikblech

Poléiert Aluminiumnitrid AlN Keramikblech
Wet diamond polishing pads for graniteAluminiumnitrid AlN Keramikzylinder

Aluminiumnitrid AlN Keramikzylinder

Aluminiumnitrid AlN Keramikzylinder
Wet diamond polishing pads for graniteHéich thermesch Conductivity AlN Keramik Substrat

Héich thermesch Conductivity AlN Keramik Substrat

Héich thermesch Conductivity AlN Keramik Substrat
Wet diamond polishing pads for graniteAlN Keramik Plack

AlN Keramik Plack

AlN Keramik Plack
Wet diamond polishing pads for graniteAluminiumnitrid Keramik Komponenten

Aluminiumnitrid Keramik Komponenten

Aluminiumnitrid Keramik Komponenten enthalen Röhre, Ring, Plack, Scheif, Staang, Crucible, asw.
Wet diamond polishing pads for graniteAluminiumnitrid Tube

Aluminiumnitrid Tube

Aluminiumnitrid Tube
Wet diamond polishing pads for graniteThermesch konduktiv AlN Aluminiumnitrid Keramik Disc

Thermesch konduktiv AlN Aluminiumnitrid Keramik Disc

Thermesch konduktiv AlN Aluminiumnitrid Keramik Disc
Wet diamond polishing pads for graniteAluminiumnitrid AlN Keramik Heizung

Aluminiumnitrid AlN Keramik Heizung

Aluminiumnitrid AlN Keramik Heizung
Wet diamond polishing pads for graniteHot Press Aluminiumnitridplack

Hot Press Aluminiumnitridplack

Hot Press Aluminiumnitridplack
Copyright © Wintrustek / sitemap / XML / Privacy Policy   

Doheem

PRODUITEN

Iwwer eis

Kontakt