Keramik Aluminium Nitrida (AlN) adalah bahan keramik teknis yang terkenal dengan konduktivitas termal yang luar biasa dan sifat isolasi listrik yang luar biasa.

Aluminium Nitrida (AlN) memiliki konduktivitas termal yang tinggi berkisar antara 160 hingga 230 W/mK. Ini menunjukkan karakteristik yang menguntungkan untuk aplikasi dalam teknologi telekomunikasi karena kompatibilitasnya dengan teknik pemrosesan film tebal dan tipis.

Akibatnya, keramik Aluminium Nitrida banyak digunakan sebagai substrat semikonduktor, perangkat elektronik berdaya tinggi, rumah, dan heat sink.

Nilai Khas(dengan konduktivitas termal dan proses pembentukan)

160 W/mK (Penekanan Panas)

180 W/mK (Pengepresan Kering & Pengecoran Pita)

200 W/mK (Pengecoran Pita)

230 W/mK (Pengecoran Pita)

Properti Khas

Konduktivitas termal yang sangat tinggi

Ketahanan guncangan termal yang luar biasa

Sifat dielektrik yang baik

Koefisien ekspansi termal rendah

Kapasitas metalisasi yang baik

Aplikasi Khas

Penyerap panas

Komponen laser

Isolator listrik berdaya tinggi

Komponen untuk mengelola logam cair

Perlengkapan dan isolator untuk pembuatan semikonduktor