Seramik Boron Nitride (BN) adalah antara seramik gred teknikal yang paling berkesan. Mereka menggabungkan ciri-ciri tahan suhu yang luar biasa, seperti kekonduksian terma yang tinggi, dengan kekuatan dielektrik yang tinggi dan lengai kimia yang luar biasa untuk menyelesaikan masalah di beberapa kawasan aplikasi yang paling mencabar di dunia.
Seramik Boron Nitride dihasilkan dengan menekan pada suhu tinggi. Kaedah ini menggunakan suhu setinggi 2000°C dan tekanan sederhana hingga besar untuk mendorong pensinteran serbuk BN mentah ke dalam blok padat besar yang dikenali sebagai bilet. Bilet Boron Nitride ini boleh dimesin dengan mudah dan disiapkan menjadi komponen geometri kompleks yang licin. Keupayaan pemesinan yang mudah tanpa kerumitan penembakan hijau, pengisaran dan kaca membolehkan prototaip pantas, pengubahsuaian reka bentuk dan kitaran kelayakan dalam pelbagai aplikasi kejuruteraan lanjutan.
Kejuruteraan ruang plasma ialah salah satu penggunaan seramik Boron Nitride. Rintangan BN terhadap sputtering dan kecenderungan rendah untuk penjanaan ion sekunder, walaupun dengan kehadiran medan elektromagnet yang kuat, membezakannya daripada seramik termaju lain dalam persekitaran plasma. Rintangan terhadap sputtering menyumbang kepada ketahanan komponen, manakala penjanaan ion menengah rendah membantu memelihara integriti persekitaran plasma. Ia telah digunakan sebagai penebat termaju dalam pelbagai proses salutan filem nipis, termasuk pemendapan wap fizikal (PVD) yang dipertingkatkan plasma.
Pemendapan wap fizikal ialah istilah untuk pelbagai teknik salutan filem nipis yang dilakukan dalam vakum dan digunakan untuk menukar permukaan bahan yang berbeza. Orang sering menggunakan pemendapan sputtering dan salutan PVD untuk membuat dan meletakkan bahan sasaran pada permukaan substrat apabila membuat peranti optoelektronik, bahagian automotif dan aeroangkasa yang tepat, dan perkara lain. Sputtering ialah proses unik di mana plasma digunakan untuk terus memukul bahan sasaran dan memaksa zarah keluar daripadanya. Seramik Boron Nitride biasa digunakan untuk mengurung arka plasma dalam ruang sputtering pada bahan sasaran dan untuk mengelakkan hakisan komponen ruang integral.
Seramik Boron Nitride juga telah digunakan untuk menjadikan pendorong kesan Dewan satelit berfungsi dengan lebih baik dan tahan lebih lama.
Pendorong kesan dewan menggerakkan satelit di orbit dan probe di ruang dalam dengan bantuan plasma. Plasma ini dibuat apabila saluran seramik berprestasi tinggi digunakan untuk mengionkan gas propelan semasa ia bergerak melalui medan magnet jejari yang kuat. Medan elektrik digunakan untuk mempercepatkan plasma dan menggerakkannya melalui saluran nyahcas. Plasma boleh meninggalkan saluran pada kelajuan dalam puluhan ribu batu sejam. Hakisan plasma cenderung untuk memecahkan saluran nyahcas seramik terlalu cepat, yang merupakan masalah untuk teknologi canggih ini. Seramik Boron Nitride telah berjaya digunakan untuk meningkatkan jangka hayat penujah plasma kesan hall tanpa menjejaskan kecekapan pengionan atau keupayaan pendorongan.