(Substrat Alumina 99.6%.dihasilkan olehWintrustek)
Dalam keluarga seramik, seramik diperbuat daripadaalumina mempunyai kelebihan berikut: rintangan haus yang sangat baik, kekerasan yang tinggi, kekuatan mekanikal yang luar biasa, kestabilan dan penebat kimia yang sangat baik, sifat dielektrik yang baik dan rintangan suhu tinggi. Di antara semua tahap ketulenan Alumina, 99.6% Alumina (Al2O3)adalah pilihansubstrat seramikdisebabkan oleh rintangan haba yang kuat, kekuatan mekanikal yang tinggi, rintangan lelasan, dan kehilangan dielektrik yang rendah. Aplikasi seperti papan litar frekuensi tinggi (gelombang mikro, gelombang milimeter), papan litar radar, radar ADAS dan litar antena dalam pakej (AiP) semuanya boleh mendapat manfaat daripada substrat seramik kehilangan dielektrik rendah ini.
Piawaian untuk substrat filem nipis dan pengeluaran litar ialah 99.6% Alumina, yang kerap digunakan untuk logam terdeposit wap yang terpercik, tersejat dan kimia untuk penciptaan litar. Ketulenan tinggi Alumina 99.6% dan saiz butiran yang lebih kecil membolehkannya menjadi lebih licin dengan kecacatan permukaan yang lebih sedikit dan mempunyai kekasaran permukaan kurang daripada 1u-in.99.6% Alumina mempunyai penebat elektrik yang hebat, kekonduksian haba yang rendah, kekuatan mekanikal yang tinggi, ciri-ciri dielektrik yang cemerlang, dan rintangan yang baik terhadap kakisan dan haus. Substrat Alumina yang digilap 99.6% mempunyai kerataan yang luar biasa, toleransi ketebalan yang ketat dan kelicinan permukaan yang unggul.
Tetapi untuk 99.5% Alumina, ia digunakan dalam situasi di mana keperluan saiz butiran yang lebih rendah tidak begitu penting. Disebabkan saiz butiran yang lebih besar, kemasan permukaan 99.5% akan mempunyai kemasan maksimum 2u-in. Berbanding dengan 99.6% Alumina, bahan ini menunjukkan pemalar dielektrik yang lebih rendah, kekuatan dielektrik, kekonduksian terma dan kekuatan lenturan.
sifat:
Permukaan yang sangat halus
Kekonduksian haba dan kekuatan yang sangat baik
Kecacatan kekisi sangat sedikit
Kejayaan teknikal:
